| 产品特性：多功能 | 产品名称：多晶硅除硼树脂 | 固体份：99% |
| 厂家(产地)：苏州 | 是否危险化学品：否 | 是否进口：否 |
| 产地：苏州 | 型号：HPC1181 | 用途：多晶硅中硼磷杂质去除，同时辅助反歧化反应 |
多晶硅是制备硅太阳电池、各种硅分立器件和各种硅集成电路的基本原料，是发展太阳 能产业和信息微电子产业的战略物资。
要将1N?2N的工业多晶硅提纯到6N~7N的太阳能级多晶硅和9N?12N电子级的多晶硅，现有的方法有物理方法和化学方法两类。
虽然这些方法可以将大多数金属杂质去除，然而杂质分凝提纯的物理方法却不适合于硅中硼和磷杂质的去除，因为硼在硅中的分凝系数是0.8，磷是0.35，都接近1，分凝提纯的效果很差。
吸附法是利用固体吸附剂来对多晶硅生产中的杂质进行吸附分离的操作方法，基本原理是基于化合物分子大小和极性的不同来吸附分离的。
多晶硅生产中的硼、磷杂质如BCl3、PCl3等是具有相当大的偶极矩的不对称分子，具有很强的极性，强烈地趋向于形成加成化学键，很容易被吸附剂吸附。硼吸附机理主要是螯合作用，而且大多硼吸附剂主要利用功能基团与硼的螯合作用来吸附除硼。磷吸附机理主要是配位络合与离子交换形式的化学吸附。
总之对吸附剂的一般要求原则有：1)具有大的表面积；2)二具有大的表面活性。
基于此，海普研发研发出多款多晶硅除硼树脂，海普多晶硅除硼树脂是一种具有多功能的特种树脂，其既具有选择性去除硼、磷杂质的功能基团，又具有催化反歧化反应基团，可满足多晶硅行业相关应用需求。
HPC-118适用于多晶硅中硼磷杂质去除，同时还可辅助反歧化反应。
部分理化指标
指 标 | HPC-118 |
外 观 | 棕色不透明球状颗粒 |
含水量 % | ≤1.0 |
交换容量 mmol/g | ≥2.8* |
粒度范围 mm | 0.30～1.20 |
平均值 mm | 0.35~0.70 |
堆积密度 g/ml | 0.45～0.55 |
均一系数 | ≤1.6 |
整球率 % | ≥95 |
使用温度 ℃ | ≤120 |
使用pH范围 | 4~14 |
* 干态树脂
其他
1．树脂储存保管过程中，应防止树脂吸水、受冻或受热。一般树脂的储存环境温度为5 ~ 40℃，可将树脂置于室内，阴凉干燥避光保存。
2．树脂储存时间不易过长，一般不宜超过1年。超过储存期，复检合格可以继续使用。
